Lågtrycksplasma
Lågtrycksplasma erbjuder mycket mångsidiga alternativ för att modifiera ytor. Precisionsrengöring av förorenade komponenter, plasmaaktivering av plastdelar, etsning av PTFE, kisel och beläggning av plastdelar med PTFE-liknande lager är några tillämpningar. I detta avseende används lågtrycksplasma i en mängd olika områden där det är viktigt att sammanfoga material eller för att modifiera ytegenskaperna.
När det gäller lågtrycksplasmatekniken exciteras gas i vakuum genom att tillföra energi. Detta resulterar i energiska joner och elektroner, såväl som andra reaktiva partiklar, som utgör plasma. Ytor kan sedan ändras effektivt. Det finns tre plasmaeffekter:
- Mikrosandblästring: Ytan avlägsnas av jonbombardemanget.
- Kemisk reaktion: Den joniserade gasen reagerar kemiskt med ytan.
- UV-strålning: UV-strålning bryter ner långkedjiga kolföreningar.
Genom att variera processparametrarna såsom tryck, effekt, processtid, gasflöde och sammansättning förändras plasmans effekt. Flera effekter kan därför uppnås i ett enda processsteg.
Läs mer »Zepto – low-cost
2,6 litres laboratory low cost plasma cleaner ZEPTO with manual, PC and PCCE control
Läs mer »Atto- low-cost
10,5 litres laboratory low cost plasma cleaner ATTO with manual, PC and PCCE control
Läs mer »Sputtersystem Tetra 8
The TETRA 8 plasma cleaner is configured with a sputtering system for high-vacuum-based coating technology and for cleaning processes in preparation of highly pure surfaces.
Basic configuration
– Body: W 610 mm x H 1,700 mm x D 800 mm
– Chamber
Läs mer »Bell Jar 35
The Bell Jar 35 is a research plasma system developed for scientific experimentation. The system can be used for thermal evaporation, sputtering, electron beam evaporation, metal coating for SEM (scanning electron microscope) preparation, as well as for conventional plasma processes.
